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光刻技術

產品簡介

nanoArch S130 2μm高精度微納3D打印系統基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術（PμSL）構建，并融入了摩方自主開發的多項技術。

產品型號：nanoArch S130

更新時間：2024-09-18

廠商性質：生產廠家

訪問量：2168

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產品分類

精密加工

高精密增材制造微納增材制造數字微流控芯片光刻技術

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品牌	其他品牌	應用領域	醫療衛生,食品,生物產業,電子,制藥
光學精度	2μm	打印材料	光敏樹脂
打印層厚	5-20μm	最大打印尺寸	50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源	UV?LED(405nm)

一、3D光刻技術介紹

摩方PµSL是一種微米級精度的3D光刻技術，這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快速涂層技術大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。

在三維復雜結構微納加工領域，BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經驗，針對客戶在項目研究中可能出現的工藝和材料難題，我們將持續提供簡易高效的技術支持方案。

二、3D光刻技術功能介紹

*的薄膜滾刀涂層技術允許更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；

能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂，從而生產出耐候性更強、功能更強大的零部件；

能夠打印工業級復合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開發的全新功能工程材料。

三、微納3D打印系統打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。

工業級復合聚合物，例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等。

個性化

高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫用樹脂等。

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