帶你挖掘微納3D打印的新鮮面！（內(nèi)含摩方新品劇透）

如何保障打印樣件質(zhì)量？

@W=hv：

Q：增材制造的逐層成型方式可能會(huì)對(duì)器件的表面粗糙度產(chǎn)生影響，在要求高精度的微納3D打印中可能會(huì)極大能影響器件的精度和性能，如何解決這一問題？

A：增材制造（也稱為3D打印）的逐層成型方式確實(shí)會(huì)影響器件的表面粗糙度。針對(duì)這一問題，通常可以采取以下措施：

1. 設(shè)計(jì)優(yōu)化和模型處理：模型的設(shè)計(jì)中可以考慮去除不必要的細(xì)小特征，以減少打印過程中的復(fù)雜性。模型文件（如STL格式）的分辨率應(yīng)與打印設(shè)備的分辨率相匹配，針對(duì)高精度的微納3D打印機(jī)，相應(yīng)選擇高分辨率的模型文件進(jìn)行打印。

2. 選擇合適的材料：針對(duì)不同技術(shù)的成型特點(diǎn)，選擇合適的材料進(jìn)行打印。如針對(duì)面投影微立體光刻（PμSL）技術(shù)，需控制材料的粘度處于合適的范圍，粘度過大相應(yīng)會(huì)導(dǎo)致打印過程中的流平難度增加，從而影響器件的表面粗糙度。

3. 選擇合適的打印參數(shù)：依據(jù)不同器件的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，設(shè)置合適的打印參數(shù)。以面投影微立體光刻（PμSL）技術(shù)為例，可通過控制流平速度、選擇合適的打印方向和使用最小打印層厚，有助于獲得更好的表面質(zhì)量。

4. 后處理：針對(duì)不同的3D打印技術(shù)所加工的器件，對(duì)應(yīng)可以選擇不同的后處理方式來優(yōu)化表面質(zhì)量。以面投影微立體光刻（PμSL）技術(shù)為例，針對(duì)器件的平整表面，可嘗試通過表面涂層處理的方法進(jìn)一步降低粗糙度。

如上所述，可以通過優(yōu)化模型、選擇合適的材料、合適的打印參數(shù)以及后處理等手段來盡量減小逐層成型方式對(duì)表面粗糙度的影響。

如何優(yōu)化打印過程？

@Li：

Q：如何優(yōu)化打印參數(shù)以獲得最佳的打印效果？

A：打印工藝參數(shù)對(duì)打印成功至關(guān)重要，在打印軟件中需要輸入合適的參數(shù)才能保證打印成功率及公差。

首先需要根據(jù)樣件的外形結(jié)構(gòu)，選擇合適的打印方向，結(jié)合樹脂流平時(shí)長，分段設(shè)置合適的打印參數(shù)。

掌握不同3D打印材料的特性是基礎(chǔ)。每種材料都有其自己的粘度、固化速度和強(qiáng)度。選擇合適的材料并調(diào)整參數(shù)以適應(yīng)其特性。然后根據(jù)樣件的形狀結(jié)構(gòu)、單層層厚及所選樹脂，設(shè)置適合的曝光時(shí)間。

此外，調(diào)整刮刀和滾刀的運(yùn)行頻率也是提高打印精細(xì)度的關(guān)鍵步驟。這有助于消除氣泡、實(shí)現(xiàn)流平，從而提升打印模型的質(zhì)量。

參數(shù)設(shè)置需要豐富的經(jīng)驗(yàn)。對(duì)于新用戶，使用帶有自動(dòng)參數(shù)設(shè)置功能的設(shè)備可以顯著提高打印成功率。

@A5HLEY：

Q：如何在保持打印精度的同時(shí)提高打印速度和規(guī)模化生產(chǎn)的能力？

A：要在保持打印精度的同時(shí)提高打印速度和規(guī)模化生產(chǎn)的能力，優(yōu)化打印路徑是重要的一環(huán)。通過優(yōu)化打印路徑，減少打印過程中的空程和冗余運(yùn)動(dòng)，可以顯著提高打印速度。

使用支持超高精度大幅面打印的設(shè)備或者使用多精度和多臺(tái)打印設(shè)備同時(shí)工作，可以實(shí)現(xiàn)多任務(wù)并行處理，從而提高生產(chǎn)效率。

通過集成自動(dòng)化和智能化系統(tǒng)，如機(jī)器學(xué)習(xí)和人工智能算法，可以優(yōu)化打印參數(shù)和實(shí)現(xiàn)多維度調(diào)節(jié)的自動(dòng)化，這將大大的節(jié)省人工和時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。

小摩劇透

新品即將來襲！——創(chuàng)新力作 全新升級(jí)

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在追求原創(chuàng)技術(shù)創(chuàng)新的道路上，摩方精密持續(xù)拓展超高精密3D打印的無限可能，全力打造“硬科技"，為全球不同領(lǐng)域的客戶帶來超精密制造解決方案，將攜手不同行業(yè)專家合作探索更多的創(chuàng)新和突破。